Une nouvelle étude sur la nanotexturation du silicium par plasma pour applications PV vient d’être publiée dans le journal Optics Express – Energy Express. Publication disponible ici : https://doi.org/10.1364/OE.25.0A1057 (open access) Cette étude, menée dans le cadre du projet A de l’IPVF, est le résultat d’une collaboration internationale avec le LPICM (Laboratoire de Physique des Interfaces et Couches Minces, CNRS, France) et le NIST (National Institute of Standards and Technology, Etats-Unis). La nanotexturation du silicium par

A new study on plasma nanotexturing of silicon for PV applications has been published in Optics Express – Energy Express. Paper available here: https://doi.org/10.1364/OE.25.0A1057 (open access). This work, in the frame of IPVF project A, is the result of an international collaboration with the LPICM (Laboratory of Physics of Interfaces and Thin Films, CNRS, France) and the Sensor Science Division at NIST (National Institute of Standards and Technology, US). Plasma nanotexturing of silicon leads to

Le 20 octobre dernier l’IPVF a réceptionné son nouveau bâtiment de 8000 m² situé au cœur du campus de Paris-Saclay sur la commune de Palaiseau. D’ici le premier trimestre 2018 et une fois les opérations d’aménagement terminées, les 150 chercheurs de l’IPVF et de ses partenaires y emménageront avec leurs équipements de recherche. « Le regroupement des capacités de recherche de l’IPVF dans ce bâtiment va constituer une étape importante dans le développement de notre